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              爾莫新材料KDH-800真空電弧爐

              簡要描述:爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐
              1、采用高純氬氣保護,熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小,可快速抽真空,快速充氬氣3、水冷銅電極可移動,可同時熔煉多個樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計,占地空間小,特別節約實驗空間和能源

              • 更新時間:2024-03-26
              • 廠商性質:生產廠家
              • 訪  問  量:699
              品牌其他品牌產地類別國產
              應用領域地礦,能源,電子,冶金,綜合





               

              一、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設備用途 

              用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

              二、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設備主要技術參數:

              1、型號: KDH-800

              2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室

              3、真空系統配置:飛越VRD-30直聯泵、TK-150擴散泵、氣動擋板閥和各種管路

              4、冷態極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa

              5、熔煉電流:額定電流800a

              6、熔煉坩堝 有三個工位:一個熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,一個吸鑄工位30-100g 一個異型長條工位

              7、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50-120克

              8、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套

              9、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧

               

               

               

               

               

               

               

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