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              桌面式高頻真空熔煉爐

              簡要描述:桌面式高頻真空熔煉爐全新設計采用臥式桌面式設計,主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。。

              • 更新時間:2024-03-26
              • 廠商性質:生產廠家
              • 訪  問  量:2364
              品牌其他品牌應用領域化工,地礦,冶金,綜合
               
                ·真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐設備用途
               
               
                主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。本設備采用溫控儀表控制電源加熱,測溫采用鉑銠熱電偶,溫度更加,更加節能。
               
               
                二·真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐真空高頻熔煉爐產品特點
               
               
                1·熔化速度快,加裝保溫套溫度可達到2100℃
               
               
                2·可選配程序升溫控溫,根據您的工藝要求設定好升溫或者降溫曲線,設備會自動按照此工藝進行加熱或降溫
               
               
                3· 帶傾倒裝置,可將熔好的試樣傾倒在事先準備好的錠模內,澆注出您想要的樣品形狀
               
               
                3· 可在多種氣氛條件下熔煉:空氣狀態下、保護氣氛條件下和高真空條件下熔煉,買一種設備,實現多種功能;節約您的成本。
               
               
                5· 爐體全不銹鋼結構,并帶水冷,保證外殼溫度低于35℃,保護您的人身安全
               
               
                三·桌面式真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐真空高頻熔煉爐設備參數
               
               
                1· 坩堝容量:200g
               
               
                2· 冷態極限真空度:6.67×10E-2Pa(機械泵+羅茨泵)6.67×10E-3Pa(機械泵+擴散泵)5.0×10E-4Pa(機械泵+分子泵)
               
               
                3· 設備總功率:10Kw;電源電壓:單相220V,50Hz
               
               
                4· 外形尺寸:1000×550×800mm(L×W×H)
               
                5· 設備總重量:100Kg
               

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